氧化硅拋光液 - 精密拋光材料專家—北京國瑞升科技股份有限公司

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氧化硅拋光液: 產品編號：SN20130225132455481; 關鍵詞：鉆石拋光液;鉆石液;金剛石研磨液;氧化鋁研磨液;氧化鈰研磨液;碳化硅研磨液;氧化硅拋光液;CMP拋光液;多晶鉆石液;多晶金剛石拋光液;金剛石拋光液;氧化硅拋光液;氧化鈰拋光液;稀土拋光液;硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學晶體拋光;襯底拋光;LED襯底拋光;硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光;玻璃減薄;襯底研磨;襯底拋光液;石窗口片研磨拋光;光學晶體研磨拋光;手表表盤研磨拋光;玻璃面板研磨拋光;晶體研磨拋光;Iphone研磨拋光;Ipad研磨;Iphone攝像頭研磨拋光;polishing slurry,polishing liquid

產品概述
相關產品

GRISH納米二氧化硅拋光液（CMP）

我公司系列硅溶膠產品均是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工?？缮a不同粒度（10~150 nm）的產品滿足用戶需求。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。

產品的特點：

1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的（可以生產150 nm）

2. 粒度可控，根據不同需要，可生產不同粒度的產品（10-150 nm）

3. 高純度（Cu²⁺含量小于50 ppb），有效減小對電子類產品的沾污

4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO₂的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工

拋光液基本性質

堿性型號（pH:9.8±0.5）	SOQ-2A	SOQ-4A	SOQ-6A	SOQ-8A	SOQ-10A	SOQ-12D
酸性型號（pH:2.8±0.5）	ASOQ-2A	ASOQ-4A	ASOQ-6A	ASOQ-8A	ASOQ-10A	ASOQ-12D
粒徑(nm)	10~30	30~50	50~70	70~90	90~110	110~130
外觀	乳白色或半透明液體
比重	1.15±0.05
組成	成份			含量（w%）
	SiO₂			15～30
	Na₂O			≤0.3
	重金屬雜質			≤50 ppb

拋光液組成

成份	含量（w%）
SiO₂	15～30
Na₂O	≤0.3
重金屬雜質	≤50 ppb

拋光參數（參考值）

拋光壓力	150～250 g/cm²
拋光溫度	32~40 ℃
稀釋率	<1:1~20
拋光時間	3~6 min

注：本拋光參數只適用于硅片的拋光。

包裝：500 ml/瓶，25 Kg/桶，或200 Kg/桶。

儲存：儲存溫度0~35 ℃，在0 ℃以下因產生不可再分散凝膠而失效，溫度高于35 ℃條件下儲存會促使微生物生長和加速凝膠化，縮短儲藏期。上述條件下堿性拋光液可存放兩年左右，酸性拋光液可存放半年左右。

應用范圍：

1、硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學晶體拋光;藍寶石襯底拋光;LED襯底拋光;

2、硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液；


LED行業	光學晶體	光通信	電子行業

類多晶金剛石研磨液
購買價：0.00元
藍寶石研磨液
購買價：0.00元
納米金剛石研磨液
購買價：0.00元
單晶金剛石研磨液
購買價：0.00元
CO/AO/SC系列拋光液
購買價：0.00元

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